共用ファイル - Common files
ShirakataYui- 一木研予定表テンプレート
- FAX注文用紙(寿産業)
- FAX注文用紙(山本薬品)
- FAX注文用紙(野村マイクロサイエンス)
- 発注用CAD(zip形式) A4,A3の外部用発注テンプレートです。AutoCADで作図できます。
- マテリアル203/204会議室のPolycom使用マニュアル
- マテリアル共通機器の予約方法 共通機器一覧についても予約システムから確認ができます。
- マテリアル工作室加工依頼書
(４)請求書送付先は武田先端知ビル310号室としてください。 - マテリアル工作室機器利用申請書 (４)請求書送付先は同上
- 廃液伝票見本 より詳しい情報については環境安全センターHPを参照してください。
- PRTR法指定物質登録票 指示に従い記入し、印刷すれば提出可能です。
- アクセス制限の設定方法
実験装置の管理
- H29年度一木研実験装置管理担当表
- 管理担当者の分担表
- 超純水装置使用記録表
- プラズマ洗浄装置使用記録表2014/11/10
- 停電対応マニュアル(エッチャー室)2014/11/10
- 停電対応マニュアル(バイオ2)2014/11/10
- 停電対応マニュアル(クリーンルーム)2014/11/10
共用ファイル
- 連絡一覧 2005/06/01 業者のTEL/FAX一覧です
- AutoCAD(数字入り)
- 武田ホール使用上の注意(121113現在)、武田ホール装置マニュアル(121113現在)
新4年生向け
- 研究室名簿用アンケート（学生用、学生用Eng、シニア用）
- 研究室のルール
- How To Use CleanRoom（日本語、Eng、SPM洗浄手順及び廃液タンク交換手順、実験上の注意等)
- ウイルスバスターのインストール方法 使用は研究室所有のPCに限ります
実験装置 簡易マニュアル
東京大学
- 4号館クリーンルーム使用要領 2004/10/01 初めて使用する前に必ず読むこと!! Please read this before using
the clean room for the first time!! - スパッタ装置(1回スパッタ) 2004/01/15
- スパッタ装置(2回スパッタ) 2004/01/15
- スパッタ装置(分解清掃・整備) 2007/8/11
- スパッタ装置マニュアル、スパッタ装置マニュアル 2014/12/02
- 射出装置・金型取替え 2004/01/22
- 超音波加工装置 2003/11/10
- 塩素エッチャー(Cr)操作手順 2003/07/16
- 石英エッチャー操作手順 2003/10/21
- 石英エッチャー操作手順 改訂版 2015/03/26
- 超純水製造装置のメンテナンス
2004/10/01 - SEM(Hitachi)操作方法 2003/08/12
- ESEM(PHILIPS)用マニュアル 2006/05/30
- 研究室にあるNIKON 対物レンズ表（開口数、焦点深度） 2006/07/14
- ATR-FTIR(Jasco)用マニュアル 2007/04/28
- マイクロピペット作製機簡易マニュアル １, ２ 2007/04/18
- XPS(4号館，Shimadzu-Kratos Axis Hsi)用詳細マニュアル 1, 2（ソフトウェアのみ参照）
- マスクアライナー(4号館, )マニュアル
- AFM(Shimadzu SPM)マニュアル
- AFM(JPK) 使用上の注意(7/9, 2010, 田中作成)
- マスクアライナー（PEM-800 Union, 一木研）（簡易マニュアル, PDMS位置合わせ用マニュアル, 照度変化)
- レーザー露光装置（簡易説明書） 2013/06/17
- レーザー露光装置マニュアル、レーザー露光装置マニュアル 2014/12/02
- オートクレーブマニュアル 2014/11/14
- PCLシート製膜マニュアル 2014/12/24
- 共焦点レーザー顕微鏡マニュアル 2017/05/01
- AIRコンプレッサーマニュアル(SLP-15CD、SLP-15EBD) 2017/09/07
東京大学武田先端知ビル
EB装置（Advantest F5112）
- Advantest F5112簡易マニュアル 1箇所露光 2006/10/23
- Acvantest F5112簡易マニュアル by WadaLab 2006/11/02 Unix系パソコンからのCADの使用も掲載されている
- Advantest F5112 CAD・Conversionマニュアル 2006/10/27
- Advantest F5112 Photos 2006/10/27
- 直描用レジスト(FEP-171)条件 ガラス基板を使用する際はEBレジストはFEP-171使用のこと。ZEPは禁止
- 直描用レジスト(FEP-171)カタログ
- Dvogue(コンバージョンソフト) zip形式
- Dvogue(コンバージョンソフト) ライセンスファイル 期限切れ
- Dvogue マニュアル
- pc-conv 簡易マニュアル
- EBのファイル変換および転送方法 2015/01/28
東洋大学バイオナノ研究センター
- 露光装置 2004/01/19
- 赤血球の取り出し手順 2003/06/07
- SEM(JOEL)操作手順
研究室内
- Cedence Installation 2013/02/01
- Centos 6.3 & 5.6 Setup 2013/02/01
